耗时20年，ASML才研发出5nm光刻机，华为芯片困局何时能解？

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EUV光刻机有多难造？

芯片发展到5nm制程阶段，手机市场上也出现了搭载5nm制程处理器的手机。消费者购买这类的手机可以体验到更好的性能，更流畅的体验。这是几年前智能手机达不到的，一切都是因为芯片的更新迭代。

台积电，三星两大巨头都具备了制造5nm芯片的实力，但是想要制造出5nm，他们也离不开荷兰ASML生产的EUV光刻机。

没有EUV光刻机，世界上不会存在5nm制程的芯片，也就没有麒麟9000、A14、Exynos1080、骁龙888了，更不会有小米11、Mate40、iQOO7、iPhone12等机型。一切产品追根溯源都可以联系到EUV光刻机。

可是这么重要的EUV光刻机设备，却只有荷兰ASML这一家公司能生产，做到了完全垄断高端光刻机市场，没有对手能参与竞争。

所以EUV光刻机有多难造？据坊间传闻，即便将EUV光刻机的图纸公开，外界也造不出来。一台光刻机拥有13个分系统，200多个传感器。

EUV极紫外光的光源更是难以突破，光源需要在每秒之间用5万次的频率击中同一个目标两次，造一颗芯片要经历3000多道工序，且成功率几乎要达到100%。

如果在生产芯片的过程中，哪怕是几公里外发生一起车祸，产生的震动都有可能影响EUV光刻机制造芯片的成功率。

由此不难看出EUV光刻机的制造难度，而且别看是ASML一家公司造出来的，其实是集成了全世界的力量。

集众家之长，终得蜕变

ASML可以说是集运气和实力于一身的企业，但如果真要论起来的话，运气的成分大于实力，为什么这么说呢？回顾ASML制造出EUV光刻机的历程就知道了。

1984年ASML正式成立，当时的ASML几乎不值一提，是一个放在时代浪潮中随时会被淹没的小厂房。更别提还有日本佳能，尼康这样的光刻机巨头存在。按照正常的发展进程，哪怕ASML努力一百年也未必能追得上日本两大光刻机巨头。

可彼时光刻机行业面临一大问题，光刻机光源波长止步193nm。机缘巧合之下，ASML用上了台积电林本坚提供的浸没式光刻法，居然打破了光源波长的限制。2004年造出第一台浸润式光刻机。

ASML的好运还没有结束，后来加入了EUVLLC联盟，正式迈向生产出EUV光刻机的第一步。EUVLLC联盟是集合了全球顶尖科技巨头的组织，汇聚了英特尔、AMD、IIBM、摩托罗拉等。

EUVLLC联盟研制的方向也很明确，那就是用十多纳米的极紫外光（EUV）制造7nm及5nm的芯片。于是就定下了生产EUV光刻机的目标，这是整个联盟的想法。不过该由谁来制造EUV光刻机呢？

美国考虑到日本半导体会对其产生威胁，于是选择了ASML作为生产EUV光刻机的企业。因此ASML集成了来自全球各地的半导体技术、光学、材料学、精密制造等等。毫不夸张地说，ASML是被全球半导体捧起来的。

一台EUV光刻机有90%的零部件都是由欧美国家提供，再者EUVLLC联盟成员大部分都是美国企业，挑选ASML作为生产EUV制造商，必然有密切地联系。所以ASML想要自由出货EUV光刻机，没那么简单。

终于到了2015年，集众家之长的ASML完成了蜕变，量产出第一台EUV光刻机。自此耗时20年，ASML尚且集成了世界半导体的力量，才研发出5nm光刻机，可是华为芯片困局何时能解呢？

以国内目前的水准，还处在28nm左右，与5nm的EUV光刻机差距好几代。而且不可能像ASML一样，获得全世界半导体的支持。但只要一点一滴的积累，不断取得突破，相信未来的某一天，再大的困局都能迎刃而解。

总结

中国在半导体领域已经取得了不小的进步，也定下了未来发展的计划。即便是在光刻机产业上，也有中科院，上海微电子以及华卓精科等头部力量。也期待最终实现突破的那一天能尽快到来。

对EUV光刻机你有什么看法呢？

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