芯片出路在趋小，中国芯片变道超车，未来可期！

2020年末，一则消息打破了宁静，带来了欢呼雀跃，带来了芯片的未来。

西湖大学纳米光子学与仪器技术实验室宣布，该实验室研发的冰刻技术取得重大突破，形成了完整的自动化微米冰刻系统的雏形。

所谓的“冰刻”是在低温真空条件下利用水蒸汽低温结冰形成冰膜，而后进行刻录、填充等步骤，最终形成芯片的过程。“冰刻技术”在本质上与“光刻技术”不同，绕开被国外垄断的光刻胶产业，打破芯片技术受制于人的局面。

“冰刻技术”能胜任纳米级别的芯片制造吗？

理论上“冰刻”的精度完全可以达到“光刻”现在能达到的精度，甚至在电子束直写光刻机精度达到要求后还可以超过EUV光刻的精度。

EUV技术制造芯片所用到的光刻机与光刻胶缺一不可，不仅是机器很难买到而且光刻胶的质量与填涂也十分重要。

每年ASML的光刻机产量仅为20台，而且加上美国对中国在高精尖领域的制裁，使得我国能拥有光刻机的机会十分渺茫。

对于光刻胶的生产，虽然国内有厂家在生产但质量上与国外差了好几个级别，还达不到手机厂商在制造芯片的要求。

冰刻技术则利用水蒸气在低温状态下会结成冰膜，这直接绕过了光刻胶，并且因为通过物理特性形成膜，解决的光刻胶会涂抹不均匀的现象，克服了光刻技术的缺点。

此外，仇旻团队花费六年的光阴验证了“冰刻”制造芯片技术的可行性，并且完成了国内第一台“冰刻”系统的研发，目前在进行“冰刻2.0”工艺的攻关，也已经实现了在300nm的冰膜上进行刻录。

弯道超车，可行吗？

回顾当年陈赓问钱学森中国能不能搞出导弹，钱老掷地有声地表示，“外国人做得到，中国人就搞不得？”光刻机和芯片也同样如此，不管困难有多大，我们一样能做到！现在的芯片制造领域就像当年的核导制造，从无到有的突破，在国外重重封锁下，依然将核导造了出来。

实现突破的关键在哪？人才，高校要能培养出高质量的人才，并且科研机构要能留住人才。高校要加强对专业知识的教授同时还要加强爱国主义的熏陶，培养一批有实力的青年，为国效力。

还要有敢于打破常规的想法，敢想敢做，只有我们留住了人才尤其是创新型人才，我们才能实现弯道超车，“冰刻技术”还有很长的一段路要走，我们要有信心和决心，还要培养专业人才，提供可靠的后续力量。