西湖大学研发芯片制造“新技术”，或将突破西方垄断

自从老美对华为的一轮又一轮打压之后，华为海思芯片遭遇封锁，芯片制造生产成为一大难题，尖端的麒麟芯片生产不了，同样也买不到其它厂商高端的芯片。华为的遭遇暴露了我国在芯片领域的不足。

我们都知道，一枚完整的芯片需要经过芯片设计、制造和封测三个重要环节。在芯片设计方面华为海思作为国内科技巨头，已经做到了领先全球的能力。现在摆在我们面前最大的难题就是芯片的制造和封测，目前国内半导体行业所欠缺的，就是高端芯片的制造能力。

高端芯片制造需要高端的光刻机。对于光刻机，相信大家都不陌生，它是世界上最精密的设备之一，目前一枚芯片要成功制造出来，必须经过光刻机的一系列操作。

光刻机作为目前工业制造领域最复杂的组件，现在全球除了荷兰的ASML公司能独立生产，其他任何一个国家都无法独立生产，因为生产一台光刻机需要集合全球最尖端的科技。很遗憾的是我们国内对光刻机的研究距离高精尖的水平还有一定的差距，而荷兰的ASML公司又受制于老美，无法向我们国内出货。因此打破芯片封锁，实现芯片自主研发和生产，是我国半导体行业发展的重中之重。

虽然说光刻机的研发和生产我们迫在眉睫，但这并不代表我们不能另辟蹊径。面对西方国家的对尖端技术的严防死守，最近浙江西湖大学传来了一个好消息，研发出了可以代替光刻机的“冰刻”技术。

对于冰刻技术很多人可能很陌生。我们知道光刻机在制造芯片的过程需要顶尖的光源技术和非常精细的操作才能完成。而冰刻则是需要在-140度的密闭真空环境下进行操作，利用水蒸气遇低温结冰的特点，快速在晶片在形成冰膜，同时在冰膜上进行刻录三维的电路机结构，其步骤与光刻机的原理类似，但环境和采用方式不同，效果却大同小异。

目前据可靠消息称，西湖大学研究出来的冰刻技术已经能够实现相对复杂的微纳米级别的冰雕了，因此可以大胆的推测，这项冰刻技术在不久的将来或最有希望取代光刻机。

虽说目前西湖大学的冰刻技术还处在实验阶段，应用于实际可能还需要一些时间，但这一突破进一步证明了我国科技领域，坚定走自主研发这条路的决心，大家觉得呢。