中科院宣布喜讯，事关EUV光刻机，华为手机芯片有救了！

中科院宣布喜讯，事关EUV光刻机，华为手机芯片有救了！

众所周知，光刻机是制造芯片最关键工具，而先进制程工艺芯片制造离不开EUV光刻机。台积电代表着全球芯片制造的最高水平，荷兰ASML是唯一一个能让台积电折腰的公司，因为只有它可以生产EUV光刻机。

作为全球高端光刻机生产的领军者，ASML并非是凭一己之力完成EUV光刻机的，ASML生产的EUV光刻机中，有90%的关键设备和零部件来源于国外厂商。比如制造EUV光刻机两大核心技术光源和镜头都不是ASML自己制造的，光源来自美国Cymer，镜头来自德国蔡司。

目前，中国大陆只有上海微电子能生产光刻机，有消息称该公司第一台193nm光源的浸没式光刻机已经在安装调试过程中，结合多重曝光工艺，有望实现最小28nm工艺芯片的生产。在该消息影响下，ASML称可以向中国出口DUV光刻机，无需向美国申请，但最先进的EUV光刻机，仍然不会向中国出口。可以说，现在中国急需EUV光刻机。

近日，中科院长春光机所在实验室宣布了一个喜讯，已经搭建出了一套EUV光源设备，预计两年内可推出光刻机。之前就有媒体报道称，中科院长春光机所在光刻机所需的透镜及曝光系统上获得突破，基于哈工大DPP-EUV光源研制EUV曝光机。

EUV光刻的全称为极紫外光刻（ExtremeUltra-violet），其光源主要有2种：一种是DPP-EUV极紫外光源，一种是激光等离子体光源(LPP)。DPP-EUV极紫外光源工作原理是放电激发等离子体EUV极紫外光源，优点是产生EUV的能量转换效率高，造价低。长春光机和荷兰ASML公司采用是同一种EUV极紫外光源，但是要把它做成光刻机，还需要2年时间！

荷兰ASML光刻机，极紫外光源是美国产，镜头是德国生产，清洗部件是蓝英装备生产。如果EUV光刻机两年内国产，则中芯国际可以生产7nm乃至5nm芯片，华为手机芯片也就有救了！

中国在上世纪70年代就成功研究了光刻机。那个时候，甚至还没有荷兰ASML光刻机公司这个公司，可惜到了80年代，在造不如买的观念指导下，光刻机研发停滞了。当前，上海微电子生产的90nm光刻机，远远不能满足手机、电脑芯片制造的需求，日本半导体产业由于选错发展方向，最高也只能生产14nm光刻机，唯一能满足需求的就只有荷兰ASML公司了。数据显示，ASML生产的光刻机设备，占据了全球晶圆厂80%以上的市场份额，而且是唯一一家能生产EUV光刻机的厂商。

就在去年，荷兰ASML公司共销售了31台EUV光刻机，中国大陆由于美方阻挠的并没有买

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