全球芯片供不应求，我国能造出原子弹，为何却造不出EUV光刻机？

全球缺芯严重影响部分企业的发展，部分车企因为汽车芯片短缺而降低产能，甚至缺芯的现象已经蔓延到手机行业。

根据手机产业链人士透露，高通全系列物料的交付期限已经延长至30周以上，而穿戴设备使用的芯片更是延长至33周以上。

但在全球缺芯的背景下，也暴露中国芯片制造行业的短板，那就是无法研发出先进的光刻机。

众所周知，光刻机被誉为人类工业皇冠上的明珠，放眼全球也只有寥寥无几的几个公司能够生产出来，而高端的光刻机技术更是只掌握在荷兰的ASML的手中。根据公开数据显示，ASML垄断了全球高端光刻机的市场。

不过，我国既然能造出原子弹，为什么造不出EUV光刻机？原子弹难造可谓是众所周知，原子弹难点在于核装置的设计和核材料的获取上，只要解决这两个难题，基本上就能完成原子弹的制造。

而光刻机与原子弹的制造有些不同，因为光刻机制造需要的不是一个国家的技术，就拿ASML的先进光刻机来说，几乎集成了整个西方最先进的技术。

根据荷兰ASML攻速EUV光刻机研发工程师透露，EUV光刻机所需要的的元器件高达近10万件之多，每一件元器件都代表着业内的最高水平。

所以，中国之所以无法制造出光刻机，主要难在产业链上，因此，中国想要制造出先进的光刻机需要多方产业链的辅助才行。

其实中国很早便涉及了光刻机领域，早在1965年，我国便研发出了光刻机，在当时，中国的光刻机技术全球领先。

然而到了80年代后期，“造不如买、买不如租”的思想让原本领先的半导体行业，重新跌回谷底。前辈在光刻机技术方面的铺垫，最终因为思想而毁于一旦。

不过，目前中国也在加大对光刻机方面的投入，并且集成电路已经成为国家重点突破的技术。值得一提的是，中国的上海微电子已经能够量产90nm的光刻机，并且该公司即将交付28nm光刻机，经过技术改进，可以制造出14nm的芯片。

虽然上海微电子与ASML还有很大的差距，但终有一天上海微电子会在光刻机方面突破垄断的局面。

另外，清华大学在光刻机零部件方面也取得技术突破，其发现了适用于EUV光刻机的光源，加速了国产EUV光刻机的研发进程。

总的来说，在国家大力扶持下以及各大企业的坚持下，中国在光刻机方面势必会得到极大的提升，独立制造出属于中国的芯片。

文/球子审核/谛林