探讨国产化机遇！半导体湿电子化学品与电子气体论坛即将召开！

第二届半导体湿电子化学品与电子气体论坛

（3月19日·上海）

第二届半导体湿电子化学品与电子气体论坛将于2021年3月19日在上海召开。会议由亚化咨询主办，多家国内外龙头企业将重点参与，探讨未来半导体材料，特别是湿电子化学品和特种气体的国际经验和中国机遇与挑战。士兰微、安集微、晶瑞、珀金埃尔默、安捷伦、江化微等重点企业将出席会议并作演讲报告。

会议名称：第二届半导体湿电子化学品与电子气体论坛

会议时间：2021年3月19日 

会议地点：上海

会议主题：产业政策、市场供需、技术与经济、项目布局、创新应用

主办单位：亚化咨询

日程安排

2021年3月19日   星期五

• FAB厂对半导体材料的需求探讨——士兰微

• 28nm及以下节点硬掩模刻蚀后清洗技术——上海安集微电子

• 超大直径PFA热模压塔节在电子化学品中的应用——河南聚氟兴新材料科技有限公司

• 先进集成电路用双氧水硫酸技术趋势——晶瑞股份

• Nexion 5000 在半导体级湿电子化学品及气体分析中的解决方案——珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司

• 国内电子化学品行业发展现状及趋势——石油和化学工业规划院

• Covid-19疫情对全球半导体材料市场影响——Linx

• 高纯硅烷市场应用及发展前景——中宁硅业

• 安捷伦在半导体材料元素分析中创新技术——安捷伦

• 硅族半导体气体——内蒙古兴洋科技

• 光刻胶配套试剂在半导体制程中的应用——江化微

半导体湿电子化学品，是指主体成分纯度大于99.99%，杂质和微粒浓度符合严格要求的化学试剂，主要由上游酸、碱、醇、酮等为原料，经过预处理、过滤、提纯等工艺生产得到的高纯度半导体化学品材料，按功能途径可大致分为清洗剂、研磨液、光刻胶配套试剂、蚀刻液、显影液、掺杂试剂、电镀液等。

半导体制造用湿电子化学品用量虽小，但生产技术要求最高，产品纯度、杂质含量等要求也是最高。目前半导体湿电子化学品市场主要由欧美及日本顶尖化工企业如巴斯夫、默克、霍尼韦尔、三菱化学、住友化学、京都化工等所占据。

整个晶圆制造过程中，要反复通过十几次清洗、光刻、蚀刻等工艺流程，每次都需要湿电子化学品进行相关的处理。从整个半导体集成电路的制作流程看，湿电子化学品主要用于半导体集成电路前端的晶圆制造以及后端的封装测试环节。晶圆制造是属于技术要求最高的环节，并且随着集成电路的集成度不断提高，要求的线宽不断变小，薄膜不断变薄，相应需要技术水平更高的湿电子化学品才能满足工艺生产需要。

目前国内6吋及以下晶圆加工所用的湿电子化学品的国产化率已经超过80%。8吋晶圆产品加工所用的湿电子化学品国产化率正在不断提升，而12吋晶圆产品所用的湿电子化学品国产化率非常低。

近来来，中国多个8吋或12吋晶圆厂项目落地投产，带动了材料及设备的需求。而近几年，美国对中国企业的出口管控、技术封锁，日本对韩国半导体材料的限制出口等一系列情况，再一次敲响了半导体国产化的钟声。未来或许有更多的资金投入到国内晶圆厂的建设。

来源：亚化咨询

来源：亚化咨询

根据未来中国半导体晶圆产能进行推算，亚化咨询预计到2025年，中国半导体用湿电子化学品需求量将接近70万吨。

湿电子化学品领域，江化微、晶瑞股份等少数企业产品技术等级可达到SEMI标准G4、G5级，客户覆盖中芯国际、华润微电子、长电科技等企业，兴发集团、巨化股份等企业也有布局。

国内主要半导体湿电子化学品布局情况：

来源：亚化咨询

电子气体种类繁多，是半导体制造过程中的重要材料，可以分为大宗气体、外延气体、蚀刻气体、掺杂气体等。由于现在对半导体产品的性能及参数要求极为苛刻，因此对产品制造的环境要求就变得极为严格。由于晶圆制造过程对电子气体的需求很大，又对气体本身的纯度要求很高，因此目前晶圆制造用电子气体的市场主要被掌握着高纯工艺、能大规模量产的欧、美、日巨头公司所占据，如美国空气化工、林德&普莱克斯、法国液化空、日本大阳日酸、昭和电工等。

中国产业发展早期，在技术、工艺、设备等各方面与全球龙头企业存在较大差距。在电子气体领域，空气化工、林德-普莱克斯、液化空气、大阳日酸等国际气体公司占据着中国绝大部分电子气体市场。国内本土气体企业的市场份额不到20%。

而蓬勃发展的芯片制造产业和OLED显示制造业，对电子气体需求量极速攀升，而中国本土的气体生产企业也在快速切入电子气体领域或是扩充电子气体产能。亚化咨询预计，到2025年中国半导体用电子气体市场将达到12亿美元左右。

来源：亚化咨询

随着中国半导体制造产业迅速发展，在国家政策鼓励，大基金支持和市场需求的驱动下，电子气体将迎来空前发展机遇。

来源：亚化咨询《中国电子气体年度报告》