中国收购3台 ASML光刻机，不生产芯片，仅用于关键材料的研发

中国收购3台ASML光刻机，不生产芯片，仅用于关键材料的研发

近日，又有三台中国光刻机被荷兰的ASML收购，今天我们就来谈谈这件事。我们国家有一家公司叫上海新阳公司，在二零二零年的一次业绩说明会上上表：“我们花了大约一亿买了三台光刻机，型号是ASML1400。”然后，第一台光刻机于二零二零年十二月就位，并开始安装和调试。

但受各种复杂因素的影响，上海新阳虽然与光科机供应商、合作方沟通协调，协调设备运输安装等细节，但仍未能按计划完成全部部署。到二零二一年，1月5日，上海新阳又发布公告称，此前购买的光刻机将于三月底投入合作现场，也就是说，下个月左右的时间就能投入合作现场。实际上这个荷兰的ASML1400光刻机还不算先进，工艺制作出来的只有55纳米，而且还是二手的。

这三台光合机虽然都是二手机器，但却有着重大的现实意义，因为这三台光合机并非用于制造芯片，而是用于光刻胶验证。众所周知，光刻胶是晶片生产工艺中的一种重要材料，其质量的优劣也决定了晶片生产的成败，因此技术难度仍然很高。当前，世界光刻胶市场以日、美两国企业为主，全球前五大厂商占光刻胶市场的87%。

近年来，高端光刻胶的需求日益增长，KrF和ArF两种光刻胶已占全球市场份额的63%。高档光刻胶一直为日本企业所垄断，由于国内起步较晚，因而处于落后状态。根据中国产业信息网发布的数据，中国低端PCB光刻胶产值所占比重高达94.4%，而高端光合效率仅为1.6%。

那么，为了打破国外企业对光刻胶的垄断，我国又又把光刻胶列为国家02重点工程之一。在2030年12月17日，南大光电宣布，它自主研发的ArF光刻胶已成功通过用户使用证明，可用于制造90纳米至7纳米技术节点的芯片。此前，12月14日，上海新阳宣布完成了ArF干法和KrF厚膜光刻胶带两个研究阶段，KrF后门光刻胶有望于2022年实现量产，ArF干法和KrF厚膜光刻胶带于2022年开始量产。

那时候国产光刻胶打破垄断已经迫在眉睫，其实国内买二手光刻机用于研究并非首次，比如在2022年的9月29日，晶瑞半导体发布公告称，已耗资7500万元从SK海力士购买了一台二手阿斯迈光刻机，这台光刻机的生产工艺只有三十六点五纳米，但购买的目的也很明确，主要是为了研发高端光刻胶。因此，如果你特别关注中国半导体，你会发现，在半导体产业链里的每一个重要环节上，我们都在不断取得突破。

无论是接收材料，还是光刻机的关键设备，还是生产工艺，都不断取得重大进步，而且胜利已远在天边。当然，这些都与企业的投入，科研人员的辛勤付出，国家的大力支持密不可分。我们作为普通人，应该理解他们、支持他们，而不是

总而言之，不要妄自菲薄，也不要盲目自信，脚踏实地地走下去。随着中国的崛起，世界半导体的格局将发生变化，世界半导体的重心也将向中国转移。