超透镜（Metalens）因其极端薄型化的特点，正逐步满足智能眼镜与机器识别领域对微型化的需求。尽管全彩成像仍受物理色散等限制，但其应用已从近红外光传感扩展至共同封装光学（CPO）、AR眼镜及微缩CIS等领域。DIGITIMES Research分析师方觉民指出，Metalens供应链正趋于成熟。
目前，Metalens的量产技术主要分为深紫外光微影（DUV）、雷射直写（DLW）与纳米压印微影（NIL）三大路径。据报道，MetaOptics凭借DLW制程优势领跑，而中国台湾地区厂商则聚焦NIL技术布局。DUV制程以联电、意法半导体和采钰为代表，而NIL技术则由NIL Technology、瑞仪、亚光等主导。
在实际应用中，Metalens展现了突破传统光学限制的潜力。例如，科颖达利用超透镜将不同波长的光引导至特定像素，成功将CIS像素缩小至0.56微米以下，提升收光量并缩小镜头开孔。京瓷开发出具备悬浮屏幕效果与防窥功能的Metalens应用，而阳明交通大学提出双焦平面Metalens方案，旨在解决AR眼镜的辐辏调节冲突问题。
据供应链消息，超透镜正处于从技术验证迈向商用量产的关键阶段。MetaOptics作为少数具备从设计到量产能力的厂商，其核心竞争力在于将超透镜与AI算法结合，特别是在AI眼镜手势侦测应用中表现出色。此外，MetaOptics还将其技术延伸至数据中心的CPO领域，显示出在高速光通信市场的扩张意图。
值得注意的是，MetaOptics创始人程章金曾表示，DLW制程在产能与一致性上具有突破性优势，目前已能在150nm稳定生产，领先业界至少3年。而亚光与今国光则选择NIL制程，因其设备成本低且胶材选择弹性大，但良率仍有待提升。
整体来看，DUV制程量产程度最高，DLW已实现小规模生产，NIL虽尚未量产但具备商业化潜力，而电子束光刻（EBL）因速度慢商业化程度最低。未来2年内，随着制程良率提升与胶材折射率调校成熟，Metalens有望在传感与微型投影领域开启光学革命新篇章。
