SK Trichem将供应铪前驱物用于三星先进DRAM制程

据韩媒Theelec援引业界消息，SK Trichem将从2025年起向三星电子供应铪前驱物，用于先进制程DRAM的生产。这一合作打破了三星过去仅依赖日本ADEKA采购的局面。目前，三星的铪前驱物采购量中，约20%来自SK Trichem，其余80%仍由ADEKA提供。

SK Trichem是SK集团与日本TCLC于2016年成立的合资公司，其中SK持股65%，TCLC持股35%。2025年，SK Ecoplant收购了SK株式会社持有的65%股权，将SK Trichem纳入旗下子公司。值得注意的是，SK集团旗下的材料公司向三星供应核心材料，而三星与SK海力士是DRAM市场的竞争对手，这一情况较为罕见。

业内人士指出，三星此前坚持使用ADEKA产品，主要出于保密考虑。ADEKA在DRAM前驱物领域几乎没有其他客户。此外，三星通常避免与同时向SK海力士供货的材料厂商合作，但此次选择SK Trichem可能与专利风险有关。

据韩媒报道，铪系高介电常数前驱物的基础专利由日本TCLC持有，而SK Trichem是韩国境内唯一正式获得授权的企业。过去，ADEKA在未取得授权的情况下向三星供应该材料。默克曾试图通过无效审判与撤销审决诉讼挑战这一专利，但分别在2023年和2024年败诉，韩国法院确认了TCLC专利的有效性。因此，三星在评估后决定将部分采购转向SK Trichem。

这一交易对SK Trichem的营收结构具有重要意义。过去，SK Trichem的营收几乎完全依赖SK海力士，此次与三星的合作标志着其首次获得大规模外部客户。

业内人士分析，尽管日本TCLC的专利将于2026年下半年到期，但半导体材料一旦导入便难以轻易替换。因此，SK Trichem对三星的供应比重短期内预计会保持稳定。

前驱物是半导体制程中用于形成薄膜材料的化学原料。在DRAM中，高介电常数前驱物被沉积在电容器上，形成极薄的绝缘膜。随着制程技术的发展，电容器体积缩小，存储电荷能力下降。为在有限空间内维持足够的电荷存储能力，业界通常采用介电常数更高的材料。目前，锆系材料广泛应用于DRAM制程，但在最先进制程中，铪系材料的比重正迅速增加。