4月27日，中国台湾智慧财产及商业法院对台积电2nm制程机密泄密案作出判决。台积电前工程师陈力铭因跳槽至Tokyo Electron（TEL）公司后，伙同台积电内部员工窃取机密，被依违反《国家安全法》和《营业秘密法》判处有期徒刑10年。同时，TEL公司被处以1.5亿新台币罚金，并需赔偿台积电1亿新台币及支付5000万新台币罚金以换取缓刑。
据官方新闻稿披露，陈力铭自2023年起多次勾结台积电工程师吴秉骏、戈一平与陈韦杰，通过远程联网或借用账号登录台积电数据库，以手机翻拍先进制程机密图档。合议庭指出，陈力铭的行为导致台积电机密外流风险，对中国台湾半导体产业的国际竞争力和经济安全构成严重威胁。
不过，法院考虑到陈力铭在调查期间坦白供述，并揭发共犯陈韦杰，且外泄机密未流向第三方，最终判处其有期徒刑10年。台积电内部共犯吴秉骏与戈一平因配合调查并取得公司谅解，分别被判处3年和2年有期徒刑。另一名工程师陈韦杰因窃取“14埃米”制程机密且未获谅解，被重判6年。
此外，TEL公司高管卢怡尹因删除陈力铭存放于云端的机密图档，涉嫌湮灭证据，被判处10个月徒刑，缓刑3年，条件是支付100万新台币罚金并接受法治教育。法院还发现，TEL公司对陈力铭的考核评语暗示其非法搜集机密信息，未尽企业监督责任，最终被判处1.5亿新台币罚金。本案仍可上诉。
