CD-SEM：半导体制造中的关键量测设备

据报道，临界尺寸扫描式电子显微镜（CD-SEM）在半导体制造中扮演着重要角色，主要用于量测微影工艺中的关键几何参数，如晶圆上线宽、间距与轮廓等。其量测数据对确认制程是否符合设计规格至关重要。

全球范围内，日立先端科技、科磊（KLA）与应用材料（Applied Materials）等企业是主要的CD-SEM供应商。其中，日立在该市场长期占据较高的市占率。CD-SEM通过聚焦电子束扫描晶圆表面，利用二次电子信号生成高分辨率影像，并通过影像分析计算图形边缘位置与线宽尺寸。相比普通扫描式电子显微镜（SEM）多用于材料或结构观察，CD-SEM更注重量测精度、重复性与自动化能力，以适应晶圆厂量产环境中的尺寸监控需求。

随着制程节点不断微缩，晶体管与金属互连尺寸已进入纳米级别，传统光学量测技术在分辨率上的局限性逐渐显现，这使得电子束量测设备的重要性显著提升。CD-SEM的量测数据通常被纳入晶圆厂的制程监控与品质管理体系，用于追踪图形尺寸的稳定性及制程偏差。

在先进制程中，CD-SEM还广泛应用于评估线边粗糙度（LER）与线宽粗糙度（LWR）等指标。随着极紫外光刻（EUV）与3D晶体管结构（如FinFET与GAA）的引入，图形控制的复杂性增加，进一步凸显了CD-SEM在先进制程量测与制程监控中的关键作用。