据台媒《联合报》报道，台积电前员工陈力铭与在职员工吴秉骏、戈一平涉嫌合谋窃取台积电2nm关键技术一案，已于3月26日在中国台湾智慧财产及商业法院完成审理，最终判决结果定于4月27日宣判。
中国台湾高检署智慧财产检察分署指出，陈力铭曾任职于台积电Fab 12晶圆厂良率部门，离职后加入台积电的半导体设备供应商TEL的行销部门。2023年至2024年上半年，陈力铭为帮助TEL争取台积电先进制程设备供应资格，多次要求吴秉骏和戈一平提供关键技术与商业机密，并拍摄重制后用于改进TEL的刻蚀设备，以满足台积电2nm制程需求。
台积电发现异常后启动内部调查，怀疑有在职与离职员工非法获取机密信息，遂于2025年7月8日提起诉讼。经调查局搜查与审讯，陈力铭、吴秉骏和戈一平被羁押并禁止会见。
同年8月27日，检方以“营业秘密法”和“安全法”相关罪名起诉三人，分别求处陈力铭14年、吴秉骏9年、戈一平7年有期徒刑。此外，检方还查出陈力铭涉嫌指使另一名前员工陈韦杰偷拍2nm制程机密资料。TEL卢姓经理被指控为掩盖证据删除相关文件。
检方对陈力铭、陈韦杰、TEL及卢姓经理追加起诉，并要求判处相应刑罚。案件侦查终结后，检方于2026年1月提起第二次公诉。法院裁定陈韦杰续押，并要求吴秉骏和戈一平于4月27日到庭听取判决。
为防止串供或销毁证据，法院裁定延长陈力铭和陈韦杰的羁押期限两个月，并禁止接见和通信。
