新应材加速布局半导体材料,DUV光阻成未来重点
来源:林慧宇发布时间:2026-03-23972浏览
询问 AI随着全球半导体产业向先进制程和高端封装迈进,新应材正加速研发和产能布局。目前,其研发团队已突破百人规模,不仅稳定供应显示器材料,还在半导体领域取得显著进展。
新应材在半导体特化材料方面聚焦三大核心领域:先进微影制程、先进封装材料和光学元件材料。其中,先进微影制程涵盖表面改质剂、洗边剂、清洗剂和底部抗反射层等产品,均已进入先进制程节点并实现量产,成为公司营收的重要支柱。
在先进封装材料方面,新应材正全面推进产品开发与验证;光学元件材料则广泛应用于手机、安防监控、人脸识别和车用电子等领域。此外,深紫外光(DUV)光阻材料被列为未来3至5年的重点发展项目。目前,KrF光阻已进入客户验证阶段,ArF光阻也在同步开发中,目标是进军高端微影材料市场。
新应材在产能布局上也动作频频。桃园厂作为主要研发中心和显示器材料基地,继续发挥重要作用;台南厂和高雄厂则专注于半导体特化材料生产。其中,高雄一期产能已满载,二期预计2027年第一季度量产,三期可能于2027年底动工。同时,新应材还计划在龙潭科学园区建设全新研发中心,预计2028年启用,总投资约35亿元新台币,主要用于支持DUV光阻材料的研发。
据市场预测,DUV光阻市场规模有望在未来十年从20亿美元增长至30亿美元。新应材表示,将通过提前投资抢占市场先机。此外,其转投资的子公司新宝纮专注于半导体封装胶材市场,目前产品尚在开发阶段,预计2026年不会盈利,但未来将建设新厂。
新应材还布局了光学共同封装(CPO)相关材料,针对光学元件材料、封装胶、光阻和暂时性保护层等进行开发,部分产品已进入验证阶段。公司指出,CPO技术仍需数年发展,但已为未来做好准备。
展望2026年,新应材的成长动力主要来自客户2纳米制程的放量进度。市场预计,2026年将有4座2纳米晶圆厂进入量产,高雄一期产能可满足需求;2027年新增7座产能则由高雄二期承接。目前,2纳米制程材料已开始交货,将成为公司未来两年的主要营收来源。
在封装材料方面,新应材已有一项产品完成验证,预计2026年下半年小量出货,应用于新型先进封装架构。此外,A16和A14节点产品仍在验证中,短期内难以贡献营收;更先进的A10节点则处于开发阶段,预计2030年前不会量产。
成本方面,新应材预计2026年折旧费用将从2025年的2.4亿元增至3.4亿元,研发费用也将增加1.6亿元。尽管如此,公司预计2026年毛利率将维持在43%左右,与2025年持平。
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