普雨科技完成数亿元融资，发力纳米压印光刻设备

近日，普雨科技（苏州）有限公司宣布完成数亿元B+轮融资。本轮融资由普丰资本、零一创投领投，多家政府产业平台参与投资，华芯资本担任长期财务顾问。据公司透露，本轮融资将主要用于提升设备性能、扩建产线以及深化与各领域头部企业的合作。

普雨科技自2024年7月成立以来，已累计完成多轮融资，总额达数亿元，迅速成长为国产纳米压印领域的标杆企业。公司专注于纳米压印光刻设备的研发与生产，其核心团队在半导体设备领域拥有二十余年的工程化经验，并搭建了从研发到交付的全链条自研团队。

光刻技术是芯片制造的核心环节，长期以来被海外巨头垄断。极紫外光刻机（EUV）技术成为国产半导体发展的关键瓶颈。而纳米压印光刻技术凭借显著的成本优势、高分辨率、高良率以及低能耗特点，被认为是实现差异化替代的重要方向，广泛应用于先进封装、光学、AR/VR等领域。

目前，普雨科技的首台套纳米压印光刻设备已进入总装调试阶段，多项核心技术达到行业领先水平，填补了国内高端纳米压印设备的空白。