据《路透》报道，ASML技术长Marco Pieters近日透露，公司下一代芯片制造设备已具备量产条件。
ASML是全球唯一生产极紫外光微影（EUV）设备的厂商，其设备是芯片制造的核心。最新数据显示，这款名为High-NA EUV（高数值孔径极紫外光）的设备，能够帮助台积电和英特尔等芯片制造商简化复杂工艺流程，生产出性能更强、效率更高的芯片。
Pieters表示，ASML计划在圣荷西举行的技术会议上公布相关数据，这象征着技术发展的关键节点。据悉，这款设备单价高达4亿美元，是初代EUV设备的两倍。尽管价格昂贵，但其在AI芯片制造中的重要性不可忽视。现有EUV设备在制造复杂AI芯片时已接近技术极限，而High-NA EUV设备将为AI产业提供强大支持，助力如OpenAI的ChatGPT等应用的进一步发展。
目前，该设备已生产出50万片硅晶圆，并展现出有限的停机时间和高精度的图案绘制能力，表明其已具备成熟的量产条件。Pieters指出，客户已完成大量测试，验证了设备的可靠性。尽管如此，芯片制造商仍需2至3年时间进行进一步测试和开发，才能将其全面整合到实际生产中。
ASML表示，设备的当前可用率约为80%，目标是在年底前提升至90%。此外，即将公布的成像数据将证明，High-NA EUV设备能够以单一制程取代旧设备的多步骤工艺，从而显著提高生产效率。
