东京应化工业（Tokyo Ohka Kogyo，简称TOK）成立于1940年，总部位于日本神奈川县川崎市。作为全球半导体制程材料领域的重要供应商，TOK在光阻剂（Photoresist）技术方面拥有难以替代的市场地位，成为半导体制造中不可或缺的一环。
TOK最初以化学工业材料为核心业务，战后逐步转型至高纯度电子化学品领域，并在半导体微影制程所需的光阻材料领域占据核心地位。光阻材料在半导体制造中直接影响线宽分辨率、制程良率以及图形稳定性，是先进制程实现稳定量产的关键。TOK长期致力于i-line、KrF、深紫外光（ArF）干式与浸润式光阻的研发与量产，同时积极参与极紫外光（EUV）光阻相关材料的技术开发。其产品广泛应用于全球主要晶圆代工厂和整合元件制造商（IDM），覆盖逻辑芯片和部分存储器制程。
除了光阻剂，TOK还提供显影液、剥离液等配套高纯度化学品，以及半导体封装所需的厚膜光阻，形成了完整的产品线。在地缘政治推动供应链重组的背景下，TOK加快了在主要半导体产业聚集地如中国台湾地区、韩国和美国的研发与生产布局。由于光阻材料涉及长期研发、专利保护和制程技术积累，其替代难度极高，这使得TOK在全球半导体产业链中占据了稳定且关键的地位。
