据媒体报道，中国台湾高检署近期侦办台积电2nm核心关键技术窃密案取得新进展。调查显示，台积电前工程师陈力铭跳槽至日商TEL公司后，为获取“蚀刻机台”量产测试数据，买通时任工程师吴秉毅、戈一平窃取参数配方。去年，检方依违反国安法起诉3名工程师，并分别求处重刑。进一步侦办期间，台积电另一名陈姓员工被查出窃取核心技术给陈力铭，同时TEL的卢姓员工涉嫌湮灭证据，检方今日对这3人及TEL公司追加起诉。
起诉书指出，陈力铭在侦查中坦白供述，并主动揭发陈姓共犯，协助检方顺利查获相关证据，因此检方求处其7年徒刑，并建议法院依法减刑。而陈姓员工因犯后态度恶劣，被求处有期徒刑8年8个月。卢姓员工在知悉陈力铭被台积电发现窃密行为后，为推卸责任删除相关档案，妨碍刑事案件调查，且拒不认罪，被求处1年徒刑。TEL公司在案件调查中配合提供证据，对案情厘清有所帮助，但仍被求处罚金2500万元。
高检署表示，为厘清TEL是否符合国安法第8条第7项“尽力为防止行为”的要件，检方发现该公司云端硬盘中仍存有台积电国家核心关键技术“项次19”，即“14nm以下制程之IC制造技术及其关键气体、化学品及设备技术”等营业秘密资料，这些资料系由陈姓员工窃取。去年11月10日，高检署指挥调查局新竹市调查站，前往云林、台南等地搜索陈姓员工住处，并向法院声请羁押禁见获准。
