英特尔完成首台商用High NA EUV光刻机安装

英特尔宣布其尖端制程晶圆厂已成功安装ASML的第二代High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200B。这款设备是目前全球最先进的光刻机，将用于Intel 14A制程节点的量产。

据英特尔透露，早在2023年底，ASML交付了首台High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5000，作为试验机使用。2024年初，该设备在美国俄勒冈州的Fab D1X晶圆厂完成安装，该厂随后成为英特尔半导体技术研发的核心基地，专注于High-NA EUV光刻技术的尖端制程研发。

数据显示，TWINSCAN EXE:5200B在标准条件下每小时可处理175片晶圆。英特尔计划通过优化，将其产量提升至每小时200片以上。此外，基于过去一年多对High-NA EUV设备的使用经验，新系统的套准精度已提升至0.7nm。

英特尔表示，与ASML的合作已证明High-NA EUV光刻设备在提升精度和生产力方面的技术可行性，为未来的规模化制造奠定了基础。该设备结合了英特尔在掩模、蚀刻、分辨率增强和计量等领域的技术优势，实现了更精细的晶体管结构，同时优化了芯片设计规则，简化了工艺流程，提高了良品率。