SK海力士加速推进EUV光阻剂国产化进程

据韩媒ET News报道，SK海力士正与东进世美肯（Dongjin Semichem）联手研发高效能EUV光阻剂，旨在实现关键半导体材料的国产化。此举不仅为了摆脱对日本JSR、东京应化工业（TOK）等厂商的依赖，还希望开发出性能更优的产品，以提升半导体制造竞争力。

光阻剂是微影制程中的核心材料，用于在晶圆上刻写微细电路。目前，EUV技术是实现先进制程的关键，而全球唯一提供EUV设备的厂商为荷兰ASML。SK海力士的目标是通过提升光阻剂的感光度，缩短曝光时间，从而提高生产效率。业内人士指出，更快的反应速度意味着在相同设备条件下能够实现更高的生产能力。

SK海力士推动这一计划的另一原因是应对DRAM制程中EUV层数的快速增长。例如，10纳米级DRAM的EUV层数从1a代的1层增加到1d代的7层，未来10纳米以下产品预计会有更多层数，这将显著增加光阻剂的需求。

尽管SK海力士在2023年通过旗下子公司SK Materials Performance初步实现了低规格EUV光阻剂的国产化，但高效能产品的开发仍面临挑战。由于EUV光阻剂技术门槛极高，且材料研发周期较长，最终成果尚难以预测。SK海力士方面表示，目前无法公开具体细节，但正与多家材料厂商保持合作。