近日，位于闵行开发区临港园区的拓荆科技上海二厂正式启用并投产，据上海临港消息，此次启用的二厂将为区域集成电路产业的发展注入强劲动力。
拓荆科技成立于2010年4月，专注于半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务。公司核心产品涵盖等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备、次常压化学气相沉积（SACVD）设备、高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）设备、超高深宽比沟槽填充（Flowable CVD）设备以及三维集成（W2W/D2W Hybrid Bonding）设备和相关量测设备。这些设备广泛应用于集成电路晶圆制造、先进存储、先进封装、HBM、MEMS、Micro-LED和Micro-OLED显示等高端技术领域。
拓荆科技作为半导体薄膜沉积和三维集成设备领域的领军企业，其上海二厂被定位为高端现代化半导体产业园区。据悉，该厂工程车间的洁净度达到了国内最高标准十级，在同类项目中具有显著优势。项目建成后，将成为临港新片区集成电路产业链的重要组成部分，为区域产业的集聚发展提供强有力的硬件支持，进一步完善半导体产业生态。
