盛美半导体设备（上海）股份有限公司（科创板股票代码：688082）近日宣布，向全球头部显示屏生产商交付首台Ultra Lith BK光刻胶固化设备。该设备专为解决先进光刻工艺中的均匀性不足、温度漂移及临界尺寸变异等问题设计，助力制造商在器件尺寸不断缩小的趋势下，保持稳定的良率与图形保真度。
据盛美上海透露，Ultra Lith BK凭借±5%的紫外光强度均匀性，确保光刻胶在整片晶圆上均匀硬化。设备支持线扫描、旋转及混合曝光模式，赋予工艺高度灵活性。其先进的热管理技术有效降低了临界尺寸变异、套刻误差与图形畸变，从而显著提升良率与可靠性。
盛美上海总经理王坚表示，随着光刻技术不断突破精度极限，工艺控制的均匀性对稳定良率与器件性能至关重要。此次交付标志着公司在完成前期演示验证后，首次实现Track系列设备的客户端部署，正式进入对设备性能与稳定性要求更高的显示屏生产商领域。
Ultra Lith BK集成六块冷板，温度均匀性达±0.1°C。整机采用可配置设计，最多可容纳32块热板与两套紫外固化系统，满足客户不同工艺配方需求。热板提供两种规格：高流量热板最高工艺温度达250°C，温度均匀性≤0.2%；低流量热板工作温度最高达180°C，温度均匀性≤0.08%，达到行业领先水准。
