台积电计划1.4纳米制程不依赖High-NA EUV设备

据科技媒体《Wccftech》报道，台积电正稳步推进先进制程研发，计划于2025年底启动2纳米制程量产，并预计在2028年下半年实现1.4纳米制程的量产。值得注意的是，台积电在1.4纳米制程的研发中，选择不采用阿斯麦（ASML）最新的高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）曝光机，而是通过试错法和多重曝光技术优化工艺。

台积电计划于今年底在台中启动1.4纳米新厂的建设，初期投资金额可能高达490亿美元（约合1.5万亿新台币）。目前已核发3栋厂房的建照，并开始招募人力。根据规划，台积电将在2027年采购约30台EUV曝光机，以支持新制程的量产需求。科技分析师Dan Nystedt在X平台上透露，台积电不购买High-NA EUV设备的原因是其价格高昂，每台售价高达4亿美元，而现有设备已足以满足1.4纳米制程的需求。

多重曝光技术虽然复杂且初期良率较低，但台积电凭借其成熟的EUV设备和技术经验，能够通过不断试错优化工艺。这种研发方式与中芯国际开发5纳米制程的路径类似，但台积电拥有更长的准备时间和更丰富的技术积累，为未来量产奠定了坚实基础。