英特尔豪掷重金采购High NA EUV光刻机

据报道，英特尔正加速推进其先进制程研发，大幅增加对荷兰芯片设备制造商ASML High NA（高数值孔径）EUV光刻机的采购力度，为其Intel 14A（1.4nm）工艺提供关键支持。

High NA EUV光刻机因其卓越的光刻性能和高昂的价格，被誉为芯片制造领域的“圣杯”。据Jerry Capital的分析报告，英特尔计划从ASML采购2台High NA EUV光刻机，比原计划多购1台。这一决定表明，英特尔正加大对未来高端制程的研发投入，以确保其在先进工艺领域的竞争力。

英特尔的14A工艺将全面采用High NA EUV光刻技术。这不仅对英特尔晶圆代工（IFS）部门意义重大，更被视为其未来发展的核心关键。英特尔曾明确表示，如果Intel 14A节点无法赢得客户的广泛认可，公司可能退出高端节点竞争。因此，这一工艺对IFS而言可谓“生死攸关”。截至目前，High NA EUV设备已被台积电、三星、SK海力士以及英特尔等头部企业采用，并将应用于下一代芯片制造。

据透露，单台High NA EUV光刻机的售价高达3.7亿美元（约合人民币26亿元）。英特尔在光刻设备上的投入可能达到10亿至20亿美元（约合人民币70亿至142亿元），成为该设备的主要采购方之一。随着Intel 14A工艺的推进，英特尔的资本支出预计将迎来显著增长。