ASML预计交付10套High-NA EUV，56套EUV光刻机

据外媒Techpowerup报道，ASML近日透露，基于当前订单和需求预测，到2027年将交付10套High-NA EUV光刻机和56套EUV光刻机。其中，英特尔和三星近期显著增加了订单量。英特尔将High-NA EUV的订购数量从1套提升至2套，EUV光刻机订单也从3套增加到5套；三星则将EUV光刻机的订单从5套增加到7套。

SK海力士同样表现抢眼，2027年ASML交付的EUV光刻机中，SK海力士占了20套，并将其High-NA EUV的订单从1套增加到2套。有消息称，SK海力士计划在未来两年内完成20套EUV光刻机的安装，这些设备主要用于HBM和先进存储解决方案的生产。

尽管英特尔可能成为首家在量产中引入High-NA EUV技术的半导体制造商，但三星和SK海力士正在加速追赶。尤其是SK海力士，其产能扩张速度迅猛，预计未来需要更多厂房空间，以满足光刻机安装的需求。