据韩媒ET News援引业界消息，SK海力士计划在未来两年内新增约20台极紫外光（EUV）曝光设备，使其总设备数量翻倍至40台。此举旨在提升次世代DRAM与高带宽存储器（HBM）的生产能力。
SK海力士目前拥有约20台EUV设备，主要用于研发和生产。此次计划将分阶段实施，设备将主要部署在韩国清州的M15X厂和利川的M16厂。其中，预计2025年底投产的M15X将优先安装，而M16则根据制程转换计划逐步引入。
每台EUV设备售价高达3000亿至5000亿韩元（约合2.1亿至3.6亿美元），由荷兰ASML独家生产。以此估算，SK海力士此次投资规模将超过6万亿韩元。公司正与ASML密切协商，以加速设备交付和生产线投产。
SK海力士自2021年首次引入EUV设备以来，持续扩大其规模。若此次计划顺利完成，其EUV设备数量将与英特尔相当甚至超越，成为全球第三大EUV设备持有企业，仅次于台积电和三星电子。
此次设备扩充将显著增强SK海力士在先进制程领域的竞争力，特别是2025年底计划量产的HBM4用10纳米级1b DRAM，以及正在推进的第六代1c DRAM。此外，SK海力士还计划将EUV技术应用于第七代1d DRAM及10纳米以下制程的存储器，预计相关产品最快将于2026年实现量产。
EUV设备的扩增也将带动全球材料与零组件产业的需求增长。SK海力士已与合作伙伴就EUV专用材料和零组件供应方案展开讨论，以满足未来生产需求。
针对此次投资计划，SK海力士表示暂无法透露具体细节。
