英特尔拟增购ASML高数值孔径EUV设备

据Wccftech报道，英特尔计划增加采购荷兰ASML的高数值孔径（high-NA）极紫外光（EUV）微影设备。此次预计将采购2台设备，比原计划多出1台，进一步加大了对未来芯片制程技术的投入。

Jerry Capital在X平台的一篇分析文章中透露，韩国SK海力士同样计划增购1台high-NA EUV设备，预计也将采购2台。这表明全球主要半导体企业正在加速布局先进制程技术。

据分析，英特尔的14A制程节点将采用high-NA微影技术。这一技术的引入对英特尔晶圆代工部门而言意义重大，可能带来关键性突破。然而，英特尔此前已明确表示，若14A节点无法吸引足够客户采用，公司将可能退出高端制程节点的竞争。因此，14A节点的成功与否对英特尔晶圆代工服务（IFS）至关重要。