盛美上海推出KrF涂胶显影设备

盛美半导体设备（上海）股份有限公司（科创板股票代码：688082）近日宣布推出其首款KrF工艺前道涂胶显影设备——Ultra Lith KrF。该设备专为成熟节点光刻应用设计，具备高产能、先进工艺控制能力，已在中国头部逻辑晶圆厂客户完成交付。

据公司介绍，Ultra Lith KrF系统基于盛美上海在ArF工艺前道涂胶显影设备平台的成熟架构开发。该平台于2024年底在中国一家头部客户处完成工艺验证，为KrF设备的推出奠定了坚实基础。新设备能够均匀涂布次埃级涂层，并具备与ASML光刻机匹配的关键尺寸（CD）精度，为光刻工艺提供了可靠支持。

盛美上海总经理王坚表示，KrF光刻技术仍是成熟工艺器件制造的核心工艺。此次推出的新设备不仅扩展了公司在前端工艺设备领域的布局，还通过灵活的模块化设计提升了制造灵活性。设备配备12个旋涂腔和12个显影腔（12C12D），搭载54块可精确控温的热板，支持低温、中温和高温工艺处理，产能超过300片晶圆/小时（WPH）。

此外，Ultra Lith KrF还集成了一系列创新技术模块。例如，盛美上海专利申请中的背面颗粒去除模块（BPRV）可有效降低交叉污染风险，而晶圆级异常检测（WSOI）模块则能实现实时工艺偏差检测和良率监控，进一步提升工艺稳定性与生产效率。