据美媒报道，美国商务部产业安全局（BIS）近日宣布，撤销三星电子（Samsung Electronics）与SK海力士（SK Hynix）中国厂区享有的“验证后最终用途（VEU）”豁免资格。这一政策调整使得两大韩厂在中国的扩产与设备更替面临严格限制。同时，英特尔昔日的大连厂Fab68（已转手SK海力士）以及台积电南京厂（Fab16）也被纳入新规范围。然而，台积电上海松江8寸厂（Fab10）却成为例外。
2003年，台积电在上海松江建厂。台积电为避免被竞争对手抢占先机，选择在上海松江低调布局。松江厂的设备多为二手，包括来自美国Atmel的二手机台，甚至考虑过采购欧洲“Crolles2 Alliance”解散后的设备。这种保守策略使松江厂的制程成熟、战略价值有限，最终在美新规下未被列为管控目标。
相比之下，台积电南京厂的处境则复杂得多。2016年，南京厂以16纳米制程为目标，随着美国逐步收紧对中国的技术管制，南京厂转向28/22纳米成熟制程。尽管如此，16纳米仍被视为敏感节点，南京厂最终也被撤销VEU资格，未来设备进口需逐笔审查。
韩厂的处境则更加艰难。SK海力士无锡厂与三星西安厂分别作为DRAM和NAND闪存的重要生产基地，其先进制程与庞大产能被美国视为高风险目标。VEU豁免被撤销后，韩厂陷入“进退两难”的局面，不仅影响企业营收，还可能对全球存储器供应链造成冲击。
回顾松江厂的“幸免”原因，主要有三点：其一，建厂时间早于2007年VEU机制实施；其二，设备多为二手，制程落后，战略价值低；其三，台积电在中国大陆的布局始终保持谨慎。
