TEL社长拟9月访台积电，2nm泄密案或引发赔偿要求

据台媒报道，日本半导体设备厂商Tokyo Electron（TEL）社长河合利树计划在今年9月访问中国台湾，并于SEMICON Taiwan期间专程与台积电高层会面。此举或与近期台积电2nm制程泄密案有关。

据此前报道，台积电2nm制程泄密案涉及两名台积电员工和一名TEL员工，三人已被开除，并因涉嫌违反中国台湾地区《安全法》被羁押禁见。目前案件已进入司法调查阶段，台积电和TEL均未对此事作出回应。市场消息称，台积电可能在检方完成证据搜集后，向TEL提出赔偿要求。

中国台湾“最高检察署”检察总长邢泰钊表示，厂商提告违反营业秘密案从立案到定案通常需耗时半年以上，主要原因是检察机关在国安事件侦查方面缺乏系统性训练。据统计，2022年至2025年6月期间，中国台湾涉及营业秘密法的案件中，不起诉比例高达70%，但起诉案件中有68.7%被判有罪，显示约两成案件最终会被定罪。

邢泰钊指出，相关厂商、司法机关和检察机关在处理营业秘密案件时需提升专业能力，以保护国家重要技术及安全。中国台湾已将14nm以下制程的IC制造技术纳入核心关键技术清单。若窃取此类技术的营业秘密，将依法由检调侦办，并加重刑责，最高可判12年有期徒刑及1亿元新台币罚金。