据荷兰《新鹿特丹报》（NRC）资深科技记者Marc Hijink即将出版的新书《造光者》披露，ASML这家全球半导体设备巨头正面临前所未有的地缘政治压力。美国持续对中国实施半导体技术和设备出口限制，尤其是针对ASML生产的极紫外光（EUV）曝光机。
ASML曾以全球化运营为傲，对所有客户一视同仁。然而，随着中美科技竞争加剧，ASML无法置身事外。据书中描述，2017年中芯国际曾下单购买首台EUV曝光机，但美国迅速介入，试图阻止荷兰政府批准出口许可。尽管ASML管理层认为其业务与政治无关，但现实却让这一立场难以为继。
荷兰政府的态度也在美国的压力下发生变化。据报道，2020年荷兰一份机密分析报告提到，美国以“微量原则”为手段，要求严格审查设备中的美国技术含量。若技术含量超过一定比例，出口将受到限制。这一规则让ASML陷入两难境地。
面对美国的持续施压，ASML不得不调整策略。到2023年底，ASML在美国的游说支出增至140万美元，在欧盟的年度游说费用也达到30万欧元。这表明，ASML已深刻意识到，政治因素对其业务发展的重要性不可忽视。
与此同时，美国企业却在中国市场中趁机扩大份额。据业内分析，尽管EUV设备受限，中国芯片制造商仍可通过传统深紫外光（DUV）设备生产先进芯片。这一局面也让ASML的处境更加复杂。
