据璞璘科技微信公众号8月5日消息，其自主研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备已顺利通过验收，并交付国内特色工艺客户。
PL-SR系列设备在多项关键技术上实现了重要突破。例如，该设备攻克了步进硬板非真空完全贴合、喷胶与薄胶压印、压印胶残余层控制等核心技术难题，能够支持线宽小于10nm的纳米压印光刻工艺。这一技术指标已超越国际巨头佳能的同类产品FPA-1200NZ2C，后者仅支持14nm线宽。此外，设备还配备了自主研发的模板面型控制系统和纳米压印光刻胶喷墨算法系统等核心模块，展现了强大的自主创新能力。
与传统EUV光刻技术相比，纳米压印技术在成本和能耗方面具有显著优势。其设备投资成本可降低60%，耗电量仅为EUV技术的10%。特别是在存储芯片制造领域，由于该技术适合处理重复性图形结构，为国内存储芯片厂商突破制程瓶颈提供了全新的技术路径。目前，该设备已在存储芯片、硅基微显等多个领域完成研发验证。
