国内曝光设备产业加速崛起，宇量升与新凯来双轨并行

在全球半导体技术竞争加剧的背景下，中国本土企业在曝光设备领域的布局备受关注。上海宇量升科技有限公司和新凯来科技作为两大代表性企业，分别以不同的策略推动国产化进程。

据业内人士透露，宇量升专注于高端微影技术的研发，其在193nm浸润式DUV技术上取得突破性进展。该公司由上海国资背景主导，注册资本达10亿元，研发团队占比超过90%，其中60%为硕、博士级人才。宇量升整合了中国科学院上海光机所等科研机构的技术成果，正全力推进整机样机的开发。若其原型机顺利进入实验阶段，将成为国内首家具备整机开发能力的曝光设备厂商。

与宇量升的低调不同，新凯来科技选择高调进军市场。据媒体报道，该公司在SEMICON China展会上宣布其28纳米浸润式DUV曝光机已完成量产验证，并进入国内晶圆厂供应链。新凯来还推出五大技术平台的30多款制程设备，试图与国际大厂竞争。然而，由于缺乏实体设备展示和具体验证数据，外界对其技术成熟度仍持保留态度。