7月8日，纳设智能宣布成功交付自主研发的全自动双腔8英寸碳化硅外延设备，以及多台8英寸单腔设备，交付对象为行业龙头客户。
图源：纳设智能
纳设智能表示，本次交付的核心设备采用独立双腔体架构，结合创新的反应腔室设计，大幅降低了客户的运营成本。设备还融合了多区独立进气控制与智能温场系统，在工艺性能上表现优异。其外延层厚度均匀性稳定在1%以内，掺杂均匀性控制在2%以内，缺陷密度≤0.1cm²，达到国际先进水平。此外，该设备兼容6英寸与8英寸晶圆生产，满足了多样化需求。
成立于2018年的纳设智能，专注于第三代半导体碳化硅、新型光伏材料、纳米材料等领域的高端设备研发与生产。自2021年首台碳化硅外延设备出货以来，公司持续推动技术升级。2025年，纳设智能计划推出新一代智能外延系统，融合自动化技术，助力先进材料设备向“高效低碳、智能集成”方向发展。
