据台积电高层透露，公司正在评估未来制程技术是否需要采用荷兰阿斯麦（ASML）的High-NA EUV（高数值孔径极紫外光）微影设备。这款设备单价接近4亿美元，几乎是目前晶圆厂最昂贵设备的两倍，其高昂成本引发了业界对性能提升与经济效益平衡的广泛讨论。
台积电业务开发资深副总裁张晓强在近期的记者会上明确表示，公司尚未发现必须在即将推出的A14制程中采用High-NA EUV设备的理由。他指出，即便不使用该设备，A14制程的性能表现依然十分出色。台积电技术团队将继续优化现有Low-NA EUV设备的潜力，通过缩小尺寸等技术手段延长其使用寿命。“只要我们能找到解决方案，转向High-NA设备显然并非必要。”
相比之下，台积电的竞争对手英特尔已宣布将在其“14A”制程中引入High-NA EUV设备，以提升其芯片代工业务的竞争力。不过，英特尔也提到，客户仍可选择使用成熟的老款技术。这表明，在追求技术领先的同时，成本控制仍是企业的重要考量因素。
值得注意的是，张晓强去年也曾表达过类似观点，认为A16制程是否需要采用High-NA EUV设备取决于经济与技术的平衡点。他坦言：“虽然这项技术令人欣赏，但其高昂的价格确实让人犹豫。”
