日本首台EUV光刻机在Rapidus工厂开始安装

日本半导体公司Rapidus成为国内首家接收极紫外（EUV）光刻设备的企业，已开始在其位于北海道千岁的在建芯片制造工厂安装EUV系统，预计将于本月底完成。

荷兰供应商ASML生产的首批EUV光刻系统已抵达新千岁机场，首席执行官小池敦义表示，公司将推动北海道和日本的尖端半导体走向全球。EUV机器结合了特殊光源、镜头和其他技术，能形成超精细电路图案，对操作技能要求极高，全球仅有少数芯片制造商采用，包括台积电、三星电子和英特尔。

ASML是全球唯一的EUV系统供应商，每台系统成本约为1.8亿美元。Rapidus正与IBM合作，计划于2025年春季采用2纳米工艺开发原型芯片，并在2027年实现量产。这一先进芯片对于人工智能等技术至关重要。

20世纪80年代，日本半导体产业全球市场份额超过50%，但到了21世纪，日本已退出生产越来越小的逻辑芯片的竞争。Rapidus项目由日本政府支持，旨在恢复日本生产先进芯片的能力，并减少对出口的依赖。东京的目标是让日本芯片制造商的销售额在2030年超过15万亿日元，是2020年的三倍。

Rapidus的下一步是积累专业知识，公司已派遣约150名工程师前往IBM学习如何管理生产线。日本政府数据显示，2030年全球先进半导体市场规模预计将达到53万亿日元，比2020年增长近8倍。