台积电高雄厂2nm制程扩建，P3至P5项目加速推进

台积电在高雄的新厂2nm制程进展迅速，公司计划扩大在高雄的投资，拟在前中油高雄炼油厂土地上建设第三期厂房（P3），并已启动第四期（P4）和第五期（P5）的环评工作，争取扩大开发面积。根据规划，P3厂预计在2026年完工，P4和P5厂则计划在2027年完成。这一扩建计划显示了台积电对先进制程的重视，以及对客户需求的积极响应。

台积电在高雄的布局顺利，原计划以成熟制程开始，后于2023年8月经董事会批准转向2nm制程。原计划的相关设备进机时间从2025年第三季提前至2023年11月底，比原计划提前半年以上。高雄厂是台积电在当地的首座12英寸厂，预计2025年量产。

法人分析认为，台积电扩大高雄先进制程投资，意味着客户订单持续增加，公司需要增加更多产能，为未来运营增添动能。台积电在中国台湾的新竹宝山和高雄新厂两路并进，均预计在2025年量产。

全球半导体业的急剧变动和国际竞争力促使台积电基于产业制程全球布局考量，继续推动建厂运营。环评数据显示，台积电正在争取扩大P4、P5的开发面积，从10月规划的41公顷增至最新的43公顷左右，加上P3厂面积，合计基地面积约60公顷。台积电将于12月26日召开环境影响说明书公开会议，正式对外说明扩建计划。

随着台积电一期园区的第一期（P1）、第二期（P2）建厂后，今年启动了P3扩建计划。由于扩厂用地迫切，公司决定在P3厂旁接续启动P4、P5厂扩建计划，以发挥产能群聚综效。