北方华创：新款Cygnus系列PECVD设备成功交付

11月1日，北方华创宣布其自主研发的Cygnus系列高均匀性、大产能12英寸等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备已成功交付客户。这一成就不仅标志着公司在半导体设备制造领域的重要里程碑，也进一步巩固了其在薄膜沉积技术的领先地位。

Cygnus系列设备广泛应用于高品质介质薄膜的制备，包括氧化硅、氮化硅等，这些薄膜在逻辑存储和先进封装中扮演着关键角色。通过多站位多步沉积工艺，该设备实现了优异的均匀性和高产能，显著提升了工艺的一致性与可靠性，特别是在处理大翘曲硅片时展现出卓越的性能。

自2012年推出EPEE 550系列以来，北方华创在PECVD领域不断创新，已销售近千台设备，为客户提供了稳定可靠的薄膜生长解决方案。2019年推出的EPEE i200/800系列和2022年的Lyra系列，都受到了行业内广泛的认可，显示了公司强大的技术实力和市场竞争力。