台积电引进High NA EUV设备，不急于将其投入商用生产

台积电已证实将引进ASML新一代High NA EUV设备，计划于2024年第4季在新竹研发中心安装。尽管未透露交货时间及生产细节，但台积电表示将仔细评估新技术和设备的成熟度、成本及客户利益。

台积电计划先引入High NA EUV进行研发，开发客户所需的基础设施和图案化解决方案。

然而，台积电并不急于将其投入商用生产，只有在推出10埃米（A10）生产技术后，才可能考虑。据悉，A10制程技术预计将在2030年后推出，超前于2025年底投产的2纳米制程技术两代。

尽管目前没有采用最新版High NA EUV设备的迫切需要，但台积电仍保留进行全面技术量产可能性评估及工程任务的机会，并采用业界最先进设备进行试运行。