三星电子即将引入首款High NA EUV光刻机

据报道，三星电子正准备于2025年初推出其首款High NA EUV（极紫外）光刻机。这项由荷兰ASML提供的尖端技术，标志着三星在先进芯片制造领域迈出了重要一步。

High NA EUV设备每台售价高达3.5亿美元，拥有8mm的分辨率，能够实现三倍于低NA系统的晶体管密度，显著提升制造能力。三星首款EXE:5000型号的光刻机预计将在2025年第二季度投入使用，这将为未来更精细的电路设计奠定基础，尤其适用于5nm以下的系统半导体。

通过与IMEC的先前合作，三星已在电路处理方面积累了经验，为这一新设备的引入做好了充分准备。三星计划在2027年前实现1.4nm工艺的商业化，这一目标将为更先进的1nm生产铺平道路。

随着英特尔和台积电也在积极争夺High NA EUV设备的市场，三星虽来得稍晚，但其稳定的生产能力将是赢得竞争的关键。三星已表示，将根据实际需求调整初始订单，计划不久后推出专用的量产设备。