ASML推进High NA EUV研发，助力客户降本增效

ASML深耕High NA EUV技术超十年，正迈向商用化。在SEMICON Taiwan上，ASML展示了基于0.33NA EUV成功经验的High NA EUV（0.55NA）新技术。

为减少客户风险，ASML在光源、系统真空等方面保持原设计，主要优化客户需求。

High NA EUV预计能显著降低光罩使用量和能耗，至2029年每片晶圆生产可省200度电，总能耗降至100度。虽价格较高，但曝光次数减少，客户成本可降低约30%。ASML正努力降低技术成本。

High NA EUV由四大模块组成，多国合作研发与验证，确保满足各客户独特需求。ASML与Imec合作设立High NA实验室，提供全方位解决方案。目前，High NA EUV已验证其可行性，正加速平台成熟化，展示其卓越价值。

High NA EUV在性能上表现出色，光罩平台模块加速度惊人，打印精度和线宽均匀度均达行业领先水平，ASML承诺达标后才出货，确保客户满意。