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来源:芯极速发布时间:2024-09-095040浏览
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9月6日,荷兰政府发布了关于两款浸没式DUV(深紫外光)光刻机出口的最新许可要求,该规定将于9月7日正式生效。
根据更新后的许可要求,并根据美国出口管理条例734.4.(a).(3),ASML后续需要向荷兰政府而非美国政府申请出口许可,才能出货其TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV浸没式光刻系统。
在荷兰政府的最新声明中,并没有指明任何特定国家作为半导体设备出口限制的主要关注对象。
此前,ASML最先进的浸润式DUV光刻机(即TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式DUV光刻机)已被限制,需要荷兰许可证才能发运。此外,ASML的EUV光刻机的销售也需要许可证。
对此,ASML官方发布声明表示,认为这一新规主要是协调颁发出口许可证的方式,即由美国政府发放许可变更为由荷兰政府发放许可。
ASML表示,预计监管变化不会对2024年的财务前景产生任何影响,也不会对2022年11月投资者日期间所传达的长期前景产生任何影响。
荷兰贸易部长雷内特-克莱弗表示:“我做出这个决定是为了我们的安全。”
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