日本EUV曝光技术革新：能效与成本双降

冲绳科学技术大学院大学（OIST）研发出EUV曝光新技术，通过简化结构设计，使耗能与成本大幅下降。该技术有望打破荷兰ASML的独家供应局面，促进日本国产曝光机的发展。

该技术采用更少的反射镜（仅4片），相比ASML的10片设计，显著减少了光能量损失，同时提高了投影对比度。EUV光源仅需20W电力，系统总功耗降低至传统技术的十分之一以下，展现了极高的能效优势。

此外，研究团队还创新性地提出“二重曝光场”方法，有效降低了光罩的3D效果，进一步提升了曝光质量。这项技术已通过光学模拟软件验证，具备实际生产应用的潜力。

该新技术的商业化前景广阔，预计可大幅降低EUV曝光机的引进成本，接近减半。随着全球EUV微影市场的快速增长，该技术专利有望带来显著的经济效益。目前，研究团队正积极推进实验与产业合作，计划于2026年推出新型EUV曝光机，并已吸引海外厂商的关注与洽询。