氮化镓技术战场硝烟四起：英诺赛科与EPC专利之争新进展

在全球第三代半导体技术，尤其是氮化镓（GaN）领域的激烈角逐中，中国领军企业英诺赛科与美国知名企业宜普（EPC）之间的专利纷争持续升级，成为行业内外关注的焦点。这场技术与法律的双重较量，不仅考验着双方的技术创新能力，也彰显了各自在知识产权保护上的决心。

英诺赛科近日宣布，其针对EPC四项核心专利（涉及氮化镓功率半导体器件）的IPR（Inter partes review）请求已被美国专利商标局（USPTO）正式受理，并已进入无效审查程序。英诺赛科对此信心满满，预计这些专利将在后续审查中被判定为无效，为公司在与EPC的专利战中赢得主动。

尤为值得一提的是，在7月5日的美国国际贸易委员会（ITC）初裁中，英诺赛科成功驳回了EPC基于其508专利的所有诉讼请求。这一裁定不仅确认了英诺赛科未侵犯EPC的508专利，还标志着英诺赛科在专利战中的阶段性胜利，彰显了公司在技术创新与知识产权保护方面的强大实力。

与此同时，针对EPC的294专利，英诺赛科也发起了多方复审程序，质疑该专利的所有权利要求。美国专利商标局法官对英诺赛科的论点表示一致认同，并预计将于2025年3月发布针对294专利的多方复审无效决定。届时，这场历时近两年的专利争议或将画上句号。

财务数据显示，英诺赛科的年度收入从2021年的6821.5万元人民币飙升至2023年的5.9亿元人民币，实现了194.8%的惊人收入复合年增长率。这一亮眼成绩不仅反映了公司在市场中的强劲竞争力，也进一步证明了其在氮化镓领域的技术实力和市场影响力。