打破摩尔定律，ASML引领光刻技术革新

近年来，ASML公司作为光刻技术的领军企业，不断推动着该领域的技术革新。从High-NA到即将问世的Hyper-NA EUV光刻系统，ASML正致力于打破摩尔定律的极限，引领行业进入新的发展阶段。

在追求更高精度的光刻工艺过程中，ASML已经成功研发出基于0.55NA的新一代EUV光刻系统，并将其命名为EXE:5000。这一系统的推出，标志着光刻技术迈向了一个新的里程碑。然而，随着半导体技术的不断发展，即便是0.55NA的系统也面临着越来越大的挑战。

为了解决这一问题，ASML在imec举办的ITF World 2024大会上宣布了下一代EUV光刻系统的路线图。这一名为Hyper-NA的系统，预计将具备0.75NA的高数值孔径，并计划于2030年开始交付。这一创新不仅将进一步提升光刻工艺的精度，还将为半导体行业的发展注入新的活力。