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来源:ictimes发布时间:2024-05-143569浏览
询问 AI5月13日,希科半导体科技(苏州)有限公司宣布其研发团队成功在国产8英寸碳化硅衬底上实现同质外延生长,标志着公司正式具备8英寸SiC外延片量产能力。此次技术突破意味着希科半导体的8英寸SiC外延片已达到国际先进水平,其质量卓越,包括厚度不均匀性小于2%,掺杂浓度不均匀性小于4%,且3mm*3mm管芯良率高达97%以上。
该公司目前可提供多样化的SiC外延片产品,涵盖6英寸和8英寸多种类型。特别是8英寸SiC外延片,相比6英寸面积增加了78%,能有效降低SiC器件成本,预计将为SiC材料的降本增效提供重要支持。
希科半导体的这一成就,无疑将推动SiC材料在半导体领域的应用和发展。
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