ASML：第二台High NA EUV光刻机已交付

半导体制造巨头ASML成功交付了第二台High NA EUV光刻机，该设备已能成功印刷10nm线宽图案。这一进展标志着芯片制造技术的又一重要突破。据悉，第一台High NA设备已于去年年底至今年初交付给英特尔，而第二家客户的身份目前尚未透露，但潜在客户可能包括台积电或三星电子。

这些先进的光刻机每台价值高达3.7亿美元，预计将助力新一代更小、更快的芯片的研发。ASML透露，已收到10至20台High NA设备的订单，显示出市场对高性能芯片制造设备的强烈需求。

High NA设备使用EUV技术，具有更高的数值孔径，能够印刷更精细的电路图案。据ASML网站称，该设备的理论极限分辨率可达8nm。这一技术的突破将大幅提升单个芯片上可封装的晶体管数量，推动芯片性能迈上新台阶。