泛林集团推出突破性脉冲雷射沉积技术

半导体设备龙头Lam Research（泛林集团）宣布推出业界首款针对大量生产设计的脉冲雷射沉积(Pulsed Laser Deposition， PLD)机台Pulsus，为下一代MEMS麦克风和射频(RF)滤波器的制造带来突破性解决方案。

Pulsus PLD系统采用创新技术，能够沉积出高达40％钪含量的氮化铝钪(AlScN)薄膜，大幅提升RF滤波器和MEMS麦克风的性能表现。AlScN薄膜的压电系数是目前溅射薄膜的2倍，不仅可以改善电能转换效率，更能推动无铅压电材料取代传统的锆钛酸铅(PZT)。

Lam Research客户服务事业群副总裁暨总经理Chris Carter表示：「我们运用在特殊半导体技术方面的专业知识，再加上获业界肯定的沉积能力，以及与CEA-Leti的策略合作，在我们经过生产验证的2300®平台上，为客户带来了这项改变产业游戏规则的解决方案。」

Pulsus系统采用密集雷射脉冲轰击目标材料，产生稳定、致密的电浆羽流，并以薄层沉积在晶圆上。这种PLD制程可确保获得高质量、均匀的薄膜，并精确控制厚度和应力，在大量制造方面具有独特优势。

凭借Pulsus PLD系统的突破性能力，Lam Research再次展现其在特殊制程技术创新方面的领导地位，为5G和未来MEMS应用开启了崭新纪元。