恭喜！顶级光刻机，进入中国！

3月30日，积塔半导体在上海临港举行300mm车规半导体集成电路制造基地设备入场开工仪式，ASML光刻机入场。

此次积塔半导体12英寸车规半导体生产基地入场的光刻机或为干式DUV光刻系统I-line、ArF系列。TWINSCAN XT:400L是ASML最新的i-line系统，分辨率低至220nm，适用于200mm和300mm晶圆生产。

TWINSCAN NXT:1470双级ArF系统，可以打印分辨率低至220nm的图案，被大多数逻辑和存储器客户所采用，并已被插入到大批量制造工艺中，用于200mm和300mm晶圆生产，实现每小时330个晶圆的生产率。

积塔半导体于2017年在上海临港注册成立，专注于半导体集成电路芯片特色工艺的研发和生产制造，已建成具有自主知识产权的电源管理芯片（PMIC）、控制器（Controller）、功率器件（IGBT、SGT、FRD、TVS等）、碳化硅器件（JBS、MOSFET）、微机电系统（MEMS）等特色工艺平台，产品广泛服务于汽车电子、工业控制、电源管理、智能终端，乃至轨道交通、智能电网等高端应用市场。

产能方面，积塔半导体目前在上海临港新片区和徐汇区建有两个厂区，已建和在建产能共计30万片/月（折合8吋计算），其中６吋7万片/月、８吋11万片/月、12吋5万片/月、碳化硅3万片/月，为功率器件、汽车电子等核心芯片提供服务。

同时，积塔半导体也专注于功率模组及车规级芯片创芯整合发展，在2023年期间先后与华大九天、吉利科技达成合作，作为大股东的华大九天持股比例达到了约37.6%。此外，在融资方面，积塔半导体已先后完成5轮融资。

本文参考自半导体行业联盟、今日半导体

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