ASML新EUV光刻机受热捧，台积电与三星预计2026年采用

近日，ASML推出的新款High NA EUV光刻机成为业界焦点。这款价值3.5亿欧元的设备体积庞大，相当于双层巴士大小，重量高达150公吨，其安装过程需要六个月、250个货箱和250名工程师共同完成，突显了其高技术含量和复杂性。

尽管价格昂贵且安装复杂，High NA EUV光刻机仍备受晶圆制造大厂青睐。继英特尔率先采购后，台积电和三星也计划在未来几年内引入此设备，最快预计于2026年到位。

作为进军2纳米及以下先进制程的关键设备，High NA EUV光刻机的重要性不言而喻。尽管导入时机有所差异，但无疑，它将成为未来晶圆制造领域的重要装备。

随着制程技术的不断进步，High NA EUV光刻机的市场需求将持续增长。台积电和三星等领军企业的采纳，将进一步推动该技术在全球范围内的普及和应用。