台积电是否采用ASML High-NA EUV，引发广泛关注

台积电作为全球领先的半导体制造企业，一直走在技术的前沿。近期，关于是否采用ASML High-NA EUV曝光机的决策，引发了业界广泛关注。台积电对此持观望态度，引发了外界对其技术战略的猜测。

据报道，台积电正在评估High-NA EUV曝光机的技术成熟度和成本效益。总裁魏哲家在最近的财报会议上表示，公司需要确保技术的稳定性和可靠性，同时也要考虑其成本效益。他强调，台积电始终以客户需求为导向，并会在合适的时机做出决策。

虽然High-NA EUV曝光机具有降低制程复杂度的潜力，但其实施成本明显高于现有EUV曝光机的双重曝光。因此，成本效益成为台积电决策的重要因素。